“很好，能量均匀性达到了95%，已经超过预期。”许志远点了点头，脸上浮现出一丝满意的笑容。
接下来，他需要解决光源的能量稳定性问题。他从材料堆中取出一块特制的能量调节模块，安装在激光器的输出端口上。这个模块能实时监控光束的能量变化，并自动进行调整，确保输出光束始终保持在设定范围内。
“光源系统，完成第一阶段。”许志远合上激光器的盖板，目光中透着一抹坚定。
第二步：光学投影系统的制造
光学投影系统是光刻机的核心之一，它的作用是将掩模版上的电路图案精准地投影到硅片上。而这一过程对镜头的精度要求极高，镜片需要达到亚纳米级的加工精度，才能确保投影的清晰度和精准度。
许志远走到小世界的一台精密加工设备前。机器的外观像是一台放大版的车床，但它的内部却装备了世界顶尖的光学加工技术。
“系统，加载镜片加工程序。”他输入指令，设备立刻开始运转。
一块直径50厘米的光学玻璃被装载到设备中，许志远亲手调试了加工参数。这块玻璃将被打磨成一块具有多层镀膜的反射镜，每一层镀膜的厚度都必须精确到纳米级。
加工过程中，他的目光始终紧盯着屏幕上的参数变化，手指不时在控制面板上轻轻敲击，实时调整加工进度。
几个小时后，第一块镜片加工完成。许志远将镜片取下，放在光学检测仪下仔细检查。
“表面光滑度达到了0.2纳米，反射率接近理论极限。”他嘴角微扬，将镜片放入光学系统的框架中。
接下来，他需要加工更多的镜片，并将它们组装成一个多层反射镜组。这个过程极为复杂，但许志远的动作始终流畅而稳健，仿佛这是一场早已演练过无数次的操作。
第三步：步进扫描平台的设计
光刻机的步进扫描平台负责移动硅片，并确保硅片的位置误差不超过1纳米。这需要极高的机械精度和控制精度。
“机械精度和控制精度……这才是最考验人的地方。”许志远摸了摸下巴，目光落在一堆高强度金属材料上。
他先用数控机床加工出平台的框架，再安装上高精度的导轨和伺服电机。为了提高平台的稳定性，他在机床上将导轨的表面打磨到镜面光滑，并采用特殊的减震材料对框架进行加固。
随后，他开始调试伺服控制系统。这套系统由系统提供的算法支持，可以实时校正平台的运动轨迹，确保硅片在扫描过程中始终保持在设定的轨道上。
“系统，运行控制模拟。”许志远输入指令，平台立刻开始运转。
屏幕上显示出平台的运动轨迹，误差范围始终保持在0.5纳米以内。
“不错，这个精度已经足够了。”他满意地点了点头。
第四步：掩模版与光刻胶的研发
掩模版是光刻机的“模具”，它决定了芯片电路的具体形状和尺寸。许志远从材料堆中取出一块特制的金属板，开始在上面刻蚀电路图案。
他使用的是系统提供的高精度刻蚀设备，这台设备能够在金属表面刻出精确到纳米级的图案。
“完成！”当第一块掩模版刻蚀完成时，许志远长舒了一口气，将它放入光学系统中进行测试。